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    公司名称:上海添时科学仪器有限公司
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    钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。《查看更多》
    VTC-16-3HD ,3靶等离子溅射仪,是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式,基片极限尺寸为2″,放置样品的直径为Ø50mm,加热温度达500℃。VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪可溅射金、银、铜三种靶材,不可以溅射轻金属和碳。本机采用旋转式样品台,能够依次在同一样品上涂覆三层薄膜,适用于实验室制备复膜的样品。《查看更多》
    GSL-1800X-ZF4蒸发镀膜仪是一款高真空的蒸发镀膜仪,特别适合蒸镀对氧较敏感的金属膜(如Ti、Al 、Au等)和小分子的有机物。本机设有4个蒸镀加热舟,每个加热舟都可独立进行蒸镀,加热舟上方有一个可旋转挡板,当其中一个加热舟进行蒸镀时挡板将其它三个钨舟遮住,以防蒸镀材料之间相互污染。《查看更多》
    MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机通过一个加热平台来控制基底温度,从而加速薄膜的干燥速度,加热平台的加热温度可高达500℃,在此温度范围内基本可以满足绝大多数实验的需要。《查看更多》
    静电纺丝法是一种利用高压电场的作用,将聚合物溶液或熔体纺丝成尺度在微米到纳米级的细纤维的简单而有效的加工工艺,即聚合物喷射静电拉伸纺丝法。由于静电纺丝制备的纤维比传统的纺丝方法细得多,直径一般在数十到上千纳米,并且由电纺加工方法制备的互联孔纳米纤维材料具有极大的比表面积,同时纤维表面还会形成很多微小的二次结构,因此有很强的吸附力以及良好的过滤性、阻隔性、粘合性和保温性等。《查看更多》
    VTC-100PAH真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺,可用于强酸、强碱涂覆溶液。样件固定采用真空吸附方式。使样件取放自如,操作简单。电机启动快速度稳定,可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。VTC-100PAH真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。《查看更多》
    MSK-AFA-II-VC自动涂布机广泛用于各种高温涂膜研究,例如陶瓷类薄膜、晶体类薄膜、电池材料薄膜、特殊纳米薄膜等。MSK-AFA-II-VC自动涂布机采用真空吸附方法来对基片进行固定,使得在涂布过程中基片无褶皱现象产生,从而使得涂布更加均匀顺畅。膜的宽度保持不变,制膜厚度可根据刮刀上方的千分尺进行调节,刮刀与基片间的间隙小,则所制备薄膜厚度??;刮刀与基片间的间隙大,则所制备的薄膜厚度厚。《查看更多》
    PTL-6PB 六工位提拉机一次可提拉一个样件,通过程序控制使样件逆时针旋转,在装料烧杯中浸没一定时间后提拉出来进行干燥,浸没时间和干燥时间可以通过程序进行设置。PTL-6PB六工位提拉机的六个装料烧杯中可以装同一种薄膜材料,也可以分装不同的薄膜材料。该机设有六个温控表,可在涂膜过程中对装料烧杯进行加热,可以设置相同的温度进行加热,也可以设置不同的温度进行加热,根据烧杯内所装薄膜材料而定。《查看更多》
    磁控溅射仪可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。《查看更多》
    高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。《查看更多》
    磁控溅射卷绕镀膜机是磁控溅射多用途卷绕镀膜设备,适用于在 PET 和无纺布上镀制金属膜(铜,铝等)功能性薄膜,设备采用先进的磁控溅射镀膜技术,配备直流、射频磁控溅射系统,适合镀制软磁合金膜、金属膜、导电膜、合金膜、介质膜等。《查看更多》
    GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。属于物理气相沉积(PVD)制备薄膜技术的一种。设计而成的简单、可靠、经济的镀膜设备,适用于实验室各种复合膜样品的制备,以及非导体材料实验电极的制作。GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪可用于实验室制备扫描电镜样品使用,且设备体积小巧,《查看更多》
    VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作,用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪,一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头,用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验室制备材料薄膜的理想设备,特别适用于实验《查看更多》
    VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,《查看更多》
    VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-1HD双靶磁控溅射仪配备有一个靶枪,可选择强磁靶或弱磁靶,弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使《查看更多》
    VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪配置三个靶枪,一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,两个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,其不仅应用广泛,且具有体积小便于操作的优点,是一款实验《查看更多》
    VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪,一个弱磁靶用于非导电材料的溅射镀膜,一个强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广《查看更多》
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